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Développement avancé de logiciels : Patrons et Modèles

(3.0 cr.)

Concepts avancés de logiciels. Réutilisation de composants logiciels (patrons, modèles, librairies, plateformes). Concept de patrons. Patrons dans les étapes de développement de logiciels : patrons d'analyse, patrons d'architecture, patrons de conception et patrons de programmation. Autres formes de patrons: patrons ressources (Réflection, Plugin, Sérialisation, etc.), les patrons à distance (Remoting patterns: pooling, leasing, Lookup, etc.), etc. Développement orienté (MDA): modèle, architecture et plateforme. Types de modèles: Computation Independent Model (CIM), Platform-Independent Model (PIM), Platform-specific model (PSM) et un modèle de composants (Platform model-PM).

(06/2012)

Appartenance départementale

Informatique et mathématique

Programmes dans lesquels se trouve ce cours

0784 Programme court de deuxième cycle en informatique pour étudiants en séjour d'études
1537 Maîtrise en informatique (jeux vidéo)
3017 Maîtrise en informatique
3037 Maîtrise en informatique
3775 Diplôme de deuxième cycle en informatique appliquée

Ce cours est offert aux trimestres suivants:

Été 2017

Groupe 01 (CHICOUTIMI JOUR) - RÉSERVÉ

du mardi 02-05-2017 au mardi 20-06-2017 de 09:00 à 11:45 Local: P1-7090
du lundi 08-05-2017 au lundi 15-05-2017 de 16:00 à 18:45 Local: P1-7090
le lundi 29-05-2017       de 16:00 à 18:45 Local: P1-7090
du lundi 05-06-2017 au lundi 19-06-2017 de 16:00 à 18:45 Local: P1-7090
Automne 2017

Groupe 01 (CHICOUTIMI JOUR) - RÉSERVÉ

du mercredi 30-08-2017 au mercredi 13-12-2017 de 08:00 à 10:45 Local:
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