Concepts avancés de logiciels. Réutilisation de composants logiciels (patrons, modèles, librairies, plateformes). Concept de patrons. Patrons dans les étapes de développement de logiciels : patrons d'analyse, patrons d'architecture, patrons de conception et patrons de programmation. Autres formes de patrons: patrons ressources (Réflection, Plugin, Sérialisation, etc.), les patrons à distance (Remoting patterns: pooling, leasing, Lookup, etc.), etc. Développement orienté (MDA): modèle, architecture et plateforme. Types de modèles: Computation Independent Model (CIM), Platform-Independent Model (PIM), Platform-specific model (PSM) et un modèle de composants (Platform model-PM).
| 0784 | Programme court de deuxième cycle en informatique pour étudiants en séjour d'études |
| 1537 | Maîtrise en informatique (jeux vidéo) |
| 3017 | Maîtrise en informatique |
| 3037 | Maîtrise en informatique |
| 3775 | Diplôme de deuxième cycle en informatique appliquée |
Groupe 01 (CHICOUTIMI JOUR) - RÉSERVÉ
| le | mercredi | 29-08-2018 | de | 08:00 | à | 10:45 | Local: | P1-6110 | ||||
| du | mercredi | 05-09-2018 | au | mercredi | 12-12-2018 | de | 08:00 | à | 10:45 | Local: | P1-6110 |
Groupe 01 (CHICOUTIMI JOUR) - RÉSERVÉ
| du | mardi | 08-01-2019 | au | mardi | 23-04-2019 | de | 08:00 | à | 10:45 | Local: |